芯片制程的终极瓶颈，藏在一束紫外激光里

你知道芯片制程能推进到多少纳米，其实不取决于多少工程师，而取决于能造出多亮的光吗？这份来自科罗拉多大学STROBE项目的PDF把EUV光刻光源的原理摊开讲了——高能激光轰击锡液滴，13.5nm的极紫外光就这么被"打"出来。ASML卖一台光刻机1.2亿美元，其中最贵的恰恰是这个光源模块。说句实话，EUV光源的技术门槛至今没有被轻松攻克，全球能造出商用级EUV光源的，一只手数得过来。制程微缩这条赛道，真正的硬骨头从来不在光罩和光学镜头，而在这束又热又脆弱的紫外光上。

原文：An Introduction to EUV Sources for Lithography [pdf] · 来源：Hacker News